邮箱:kaiyunmedia@gmail.com
美光科技于6月10日宣布,已向多个主要客户交付了36GB的HBM4样品,这一里程碑标志着其在AI应用内存性能和能效方面的进一步提升。HBM4内存基于美光成熟的1ß(1-beta)DRAM工艺,采用12层堆叠封装技术,并具备高性能内存自检(MBIST)功能,旨在为开发下一代AI平台的客户提
台积电近日宣布,由于全球地缘政治形势的变化及市场需求的波动,该公司决定将其在美国新建的2nm及A16制程晶圆厂的建设工期提前6个月。这一举措旨在应对美国政府日益增长的本土制造需求压力。根据台媒Digitimes的报道,台积电在美国亚利桑那州的Fab 21工厂将分为两个独立部分,分别生产不同的制程工艺
三星电子正在全力以赴提升其2奈米GAA制程的良率,目标是达到50%,以便在先进制程技术的竞争中追赶台积电。根据韩媒《NewDaily》的报导,三星的系统LSI与晶圆代工部门正在加速提升Exynos 2600的性能与良率,这一努力旨在降低生产成本。尽管年初的良率仅为30%,但随着研发的持续投入,三星已
TrendForce集邦咨询: 2025年第一季智能手机生产量达2.89亿支根据TrendForce集邦咨询最新调查,2025年第一季全球智能手机生产总数达2.89亿支,虽然较2024年同期减少约3%,但各品牌生产表现相对平稳。其中,中国第一季的销售得益于政策红利,带动销量微幅成长。展望第二季生产表
三星电子在DRAM内存领域取得了重要技术突破,成为首家引入干式光刻胶(Dry PR)技术的公司。根据韩媒ETNews的报道,这项新技术将应用于即将推出的第六代10纳米级工艺(1c nm)。干式光刻胶与传统的湿式光刻胶相比,具有显著优势。传统湿式光刻胶需要使用溶剂进行旋涂和冲洗,而干式光刻胶则直接沉积